低对比度的基于氮化硅的超颖表面.pdfVIP

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2023-04-24 发布于北京
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低对比度的基于氮化硅的超颖表面.pdf

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本文公开了由多个柱形成在衬底上的超颖表面。该超颖表面被配置为在一个或多个波长处为光学活性的，并且在某些实施例中被配置为形成具有出乎意料的强聚焦能力的透镜。特别地，超颖表面由“低对比度”材料形成，包括诸如二氧化硅或氮化硅的CMOS兼容材料。因此，所公开的超颖表面通常是CMOS兼容的，并因此体现了超颖表面设计和制造中的新范例。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114019596 A (43)申请公布日 2022.02.08 (21)申请号 202111082123.0 G02B 1/00 (2006.01) (22)申请日 20