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本发明公开了一种阵列基板及其制备方法、显示装置，阵列基板包括衬底；薄膜晶体管结构层，设于衬底的一侧表面，包括两个以上薄膜晶体管器件；平坦层，设于薄膜晶体管结构层远离衬底的一侧表面；若干第一通孔，贯穿于平坦层，且设置于每一薄膜晶体管器件两侧；以及导电层，设于薄膜晶体管结构层远离衬底的一侧表面；其中，一导电层中部与一薄膜晶体管器件相对设置，其两端分别延伸至第一通孔，且贴附至第一通孔底部的薄膜晶体管结构层。本发明的有益效果在于：本发明的阵列基板及其制备方法、显示装置，通过在平坦层上刻蚀通孔，并通过导电
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 111739910 A
(43)申请公布日 2020.10.02
(21)申请号 202010550081.8
(22)申请日 2020.06.16
(71)申请人 深圳市华星光电半导体显示技术有
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