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本发明公开了一种镜像电极束流控制的离子发生装置,包括:阳极,所述阳极上设有进气孔;阳极的两端设有对称的刻蚀阴极和测量阴极,所述刻蚀阴极上设有第一电离腔及与其连通的第一离子通道;所述测量阴极上设有第二电离腔及与其连通的第二离子通道;由于刻蚀阴极和测量阴极是对称的,当从阳极的进气孔通入气体后,气体电离形成的离子会在电势作用下飞向左右两侧的阴极,由于从两阴极端飞出的离子束电流是一样的,刻蚀阴极端飞出的离子束电流用于抛光或者切割,测量阴极端的离子束电流进入法拉第杯中,通过法拉第杯间接测量用于抛光或切割的
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114645277 A
(43)申请公布日 2022.06.21
(21)申请号 202210175769.1
(22)申请日 2022.02.24
(71)申请人 贝光科技(苏州)有限公司
地址 2
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