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摘 要
近年来,直接硒化或者碲化金属衬底形成的二维硫基层状化合物,因具有独
特的拓扑性质而受到广泛关注。如PtSe 作为第二类狄拉克半金属在光学和电学
2
领域具有很高的研究价值,在电子器件和光学器件的应用方面具有广泛的发展前
景。因此探究金属衬底上硫族化合物的基本结构和电子性质,寻找更具发展潜力
的二维硫基层状化合物,具有非常重要的研究意义。本论文采用分子束外延的方
法在单晶Al(111)衬底上生长了高质量的硒化铝合金,利用扫描隧道显微镜、角
分辨光电子能谱,结合第一性原理计算详细研究了硒化铝合金的基本结构和性质,
并对其电子性质进行探究,主要结论如下:
(1)利用分子束外延方法,在Al(111)衬底上沉积不同覆盖度的硫族元素硒。
X 射线光电子能谱探测表明,在覆盖度0.75ML 时,Se 元素的d 轨道结合能变
大,说明硒和铝结合发生电荷转移。清晰的高能电子衍射条纹表明Se和Al在衬
底表面处形成非常好的单晶。并且我们利用扫描隧道显微镜发现,AlSe 合金表
面原子呈六角蜂窝状排布,晶格常数为3.8Å,原子结构与硒化铟和硒化镓类似。
结合理论计算确定硒化铝和Al(111)衬底的匹配是AlSe(3x3)/Al(111)(4x4),原子
结构与实验结果吻合。这些说明我们成功生长出了大面积单晶AlSe合金。
(2)利用角分辨光电子能谱分别表征了单晶Al(111)衬底和硒化铝的电子结构。
生长前,Al 衬底的表面态能带出现在-4.6eV 处。覆盖度为0.75ML 时,铝衬底表
面态能带依然存在,并且出现新的清晰的能带,随着沉积量再增加,能带逐渐变
模糊。而由于硒和铝的强杂化,在高对称方向Г-K 和Г-M,能量在费米面-4 eV
处出现两条空穴型的能带。结合理论计算发现,两条空穴型的能带主要来源于硒
p p p
的 和 轨道,而 轨道由于和衬底的强结合对能带的贡献很小。并且这两条
x y z
空穴型能带由于自旋轨道耦合发生了0.2 eV 的劈裂。
本论文首次利用分子束外延方法直接在Al 衬底上生长了AlSe合金,并清楚
地研究了AlSe 合金的原子结构和电子性质,对硒化铝之后的物性研究和具体的
应用奠定了基础。
关键词: 硒化铝 分子束外延生长 角分辨光电子能谱 扫描隧道显微镜
III
目 录
摘 要III
AbstractIV
1 绪 论 1
1.1 低维材料简述 1
1.2 Ⅲ-Ⅳ主族金属硫族化合物的研究介绍5
1.3 单晶金属衬底上硫族化合物研究介绍 12
1.3.1 单晶衬底上沉积Te和Se 原子的研究介绍12
1.3.2 本论文研究内容 16
2 实验技术与原理 17
2.1 分子束外延生长技术 18
2.2 反射高能电子衍射仪 19
2.3 扫描隧道显微镜21
2.4 光电子能谱技术22
3 AlSe材料的制备与研究26
3.1 金属Al(111)衬底的处理26
3.2 Se 原子在Al(111)衬底的沉积28
3.3 AlSe合金的基本结构表征31
3.3.1 AlSe合金化学价态的分析31
3.3.2 AlSe合金原子结构的表征33
3.4 本章小结35
4 AlSe材料电子性质的研究36
4.1 AlSe材料电子结构的表征36
4.2 AlSe 的第一性原理计算37
4.2.1 AlSe 晶体模型的构建38
4.2.2 AlSe 能带结构的计算39
4.3 本章小结41
VI
5 总结与展望43
参考文献43
致 谢54
VII
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