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本发明公开并提供了一种生产稳定、成品率高、砖面印花效果好的印花釉面砖及其生产工艺本发明中的耐污釉面砖。本发明中的印花釉面砖，包括砖坯体、喷涂在所述砖坯体外表的底釉以及印制在所述底釉上的印花层，所述砖坯体按百分比算，包含以下组分：钾长石10%‑15%，钠长石10%‑20%，锂辉石5%‑15%，煅烧高岭土5%‑15%，烧滑石1%‑3%，黑泥15%‑30%，混合黑泥15%‑25%；所述底釉按百分比算，包含以下组分：钠长石23%‑27%，方解石8%‑12%，白云石8%‑12%，烧滑石8%‑12%，石英3
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112479680 A
(43)申请公布日 2021.03.12
(21)申请号 202011588771.9 B28B 11/00 (2006.01)
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