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一种用于改善选择性沉积工艺中的金属的选择性的方法。用于金属的预处理工艺修饰金属表面,并且包括首先从金属去除有机污染物而还原金属,随后氧化金属以使金属氧化物的单层在表面上生长。该金属修饰使得抑制剂分子能吸附至金属氧化物的单层上,从而改善选择性。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112567499 A
(43)申请公布日 2021.03.26
(21)申请号 201980052566.X 亚力山大 ·R ·福克斯
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