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本发明公开了一种含Ag金属复合薄膜及其制备方法。所述制备方法包括如下步骤：采用物理气相沉积溅射镀膜的方式制备含Ag金属复合薄膜；在溅射镀膜的过程中，分别采用射频电源和直流电源控制Ag和溅射率低的金属的溅射；所述溅射率低的金属指的是溅射速率低于Ag的金属。本发明基于射频电源的Ag元素溅射调控制备方法，一方面有效的降低了Ag的溅射率，同时抑制了大颗粒Ag的产生，确保了生成制备得到的含Ag复合薄膜的均匀性。本发明方法能够更有效的控制复合薄膜中Ag的含量以及微观结构，避免了传统给直流溅射过程中产生的Ag
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112647051 A
(43)申请公布日 2021.04.13
(21)申请号 202011470726.3
(22)申请日 2020.12.14
(71)申请人 军事
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