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本发明属于微纳米加工与应用领域，涉及一种高透明超双疏表面的方制备法。具体步骤如下：在基底上涂覆高分子层，而后涂覆相分离共混薄膜，再以反应离子刻蚀技术进行选择性刻蚀形成T型纳米柱凹角结构，该纳米柱短程无序长程有序的分布，可有效消除周期性微纳结构因光学衍射产生的宏观彩虹效应，结合光捕获作用实现高透明性，在表面修饰1H,1H,2H,2H‑全氟癸基三氯硅烷单分子层后，即可实现超疏水超疏油性能。该制备方法具备过程快速简单、低成本、低毒性等优点，可应用于触摸屏显示领域和可穿戴设备等自清洁表面、流体减阻等方面
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112624033 A
(43)申请公布日 2021.04.09
(21)申请号 202011461552.4
(22)申请日 2020.12.14
(71)申请人 南京工业大学
地址
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