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- 2023-06-06 发布于四川
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本发明公开了一种用于InP晶体生长的坩埚及InP晶体的生长方法,用于InP晶体生长的坩埚,包括第一坩埚、坩埚帽和第二坩埚;第一坩埚为从上往下依次由第一体部、第一肩部和第一籽晶腔组成的开口向上的中空石英管;第二坩埚为从上往下依次由第二体部、第二肩部、缩颈腔和第二籽晶腔组成的上下两端均开口的中空PBN陶瓷坩埚;第二坩埚位于第一坩埚内侧,且第二体部位于第一体部内侧,第二肩部位于第一肩部内侧,缩颈腔和第二籽晶腔位于第一籽晶腔内侧;坩埚帽为半球形石英帽,坩埚帽外径不小于第二坩埚外径;坩埚帽开口向下地位于第
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112760713 A
(43)申请公布日 2021.05.07
(21)申请号 202011577740.3
(22)申请日 2020.12.28
(71)申请人 中锗科技有限公司
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