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本发明涉及一种改善热处理腔室污染的方法，包括：提供晶圆；于晶圆的正面形成掺杂材料层；将正面形成有掺杂材料层的晶圆进行退火处理，退火处理的同时于掺杂材料层的表面形成离子扩散阻挡层。使得进行退火处理时，掺杂材料层内的掺杂离子被离子扩散阻挡层阻挡，抑制因为热运动而向各方向扩散的掺杂离子扩散到掺杂材料层的表面而溢出，温度探头的读温精度得以保持，热处理腔室内部被污染的情况得到抑制，减少了工作人员清理保养的频率次数，机台维护养护周期变长，减少了人力成本。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112908838 A
(43)申请公布日
2021.06.04
(21)申请号 20191
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