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本发明提供一种GaN基LED外延片、外延生长方法及LED芯片,外延片包括依次沉积第一量子阱子层、第二量子阱子层、第三量子阱子层、第四量子阱子层以及第五量子阱子层而成的量子阱层,其中,前两个子层为GaN层,其余子层为InGaN层,在生长第一量子阱子层、第二量子阱子层以及第三量子阱子层的过程中,掺杂Si,且第一量子阱子层和第二量子阱子层中的Si掺杂浓度均高于所述第三量子阱子层中的Si掺杂浓度,其中,掺杂Si可以降低量子阱极化电场作用,提高电子和空穴波函数的交叠,进而提升辐射复合效率,达到提升发光二极
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114695610 A
(43)申请公布日 2022.07.01
(21)申请号 202210602897.X
(22)申请日 2022.05.31
(71)申请人 江西兆驰半导体有限公司
地址 33
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