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提供制造具有拥有可变高度及宽度的沟槽的光栅的方法。在一个实例中,一种方法包括在衬底顶部提供光学光栅层以及在所述光学光栅层之上提供图案化硬掩模。所述方法可包括仅在所述光学光栅层的部分以及所述图案化硬掩模之上形成掩模,且将多个沟槽蚀刻入所述光学光栅层中以形成光学光栅。在沟槽形成之后,以下光栅特性中的至少一者在所述多个沟槽中的一个或多个沟槽之间变化:沟槽深度及沟槽宽度。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113167947 A
(43)申请公布日 2021.07.23
(21)申请号 201980078180.6 梅根 ·克拉克
(22)申请日 2019.10.
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