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本申请实施例公开了一种CVD尾气管道清洗装置及清洗方法。所述清洗装置设置于真空泵和尾气处理装置之间,所述清洗装置包括:主管道,所述主管道上设置有两个第一阀门,分别设置于所述主管道的两端;第一进口管道和出口管道,设置于所述两个第一阀门之间的所述主管道上;所述第一进口管道和所述出口管道分别与所述主管道流体连接;所述第一进口管道上设置有第二阀门,所述出口管道上设置有第三阀门;所述第一进口管道设置于所述主管道的上方;所述出口管道设置于所述主管道的下方。本申请管道清洗装置,可以直接清洗真空泵至尾气处理装置
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113182288 A
(43)申请公布日 2021.07.30
(21)申请号 202110382178.7
(22)申请日 2021.04.09
(71)申请人 TCL华星光电技术有限公司
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