一种共聚物、底层胶组合物、双层体系及其在双层剥离工艺中的应用.pdfVIP

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2023-06-16 发布于四川
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一种共聚物、底层胶组合物、双层体系及其在双层剥离工艺中的应用.pdf

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本申请提供一种共聚物、底层胶组合物、双层体系及其在双层剥离工艺中的应用。属于半导体技术领域。共聚物由N取代马来酰亚胺单体、溶解速率控制单体、丙烯酸酯疏水性单体和丙烯酸羟乙酯亲水性单体聚合得到。本申请的共聚物不溶解于传统光刻胶的溶剂，可以溶解于碱性溶液中，不溶于水，且具有较高的玻璃化转变温度，并具有较好的化学稳定性和抗刻蚀能力，能够作为双层剥离工艺的底层树脂材料。双层体系包括顶层光刻胶和共聚物形成的底层胶。双层体系能够用于双层剥离工艺，且只需要单次显影和单次显影就可以得到目标光刻图案，大大提高光刻

(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113234194 B (45)授权公告日 2022.08.12 (21)申请号 202110725188.6 (74)专利代理机构北京超凡宏宇专利代理事务