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一种半导体装置包括:衬底;衬底上的堆叠结构,并且堆叠结构包括层间绝缘层和栅电极的交替堆叠件;第一分离区和第二分离区,其各自延伸穿过堆叠结构并在第一方向上延伸;第一上分离区,第一上分离区在第一分离区与第二分离区之间并且延伸穿过堆叠结构的一部分;多个沟道结构,多个沟道结构在第一分离区与第二分离区之间并且延伸穿过堆叠结构;以及多个第一竖直结构,每个第一竖直结构延伸穿过第一分离区和第二分离区中的特定一个。第一分离区和第二分离区中的每一个在垂直于第一方向的第二方向上具有第一宽度。每个第一竖直结构在第二方向
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114256263 A
(43)申请公布日 2022.03.29
(21)申请号 202111105868.4 H01L 27/11565 (2017.01)
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