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本申请实施例提供的清洗溶液配制方法、清洗溶液及再生晶圆上沉积物的去除方法，一方面，可以通过双氧水和氨水将再生晶圆表面的沉积物(钛金属层、氮化钛层及钨金属层)去除，采用双氧水和氨水的液体刻蚀再生晶圆表面沉积物的方式与采用气体刻蚀再生晶圆表面沉积物的方式相比，刻蚀液体与金属层表面的接触相比于刻蚀气体与金属层表面的接触更均匀，如此可以使采用双氧水和氨水的液体对金属层进行刻蚀去除金属层后的再生晶圆表面具有较高的平整度；另一方面，双氧水和氨水不与再生晶圆中的硅原子反应，可以保证去除金属层的过程中再生晶圆不
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113684032 A
(43)申请公布日 2021.11.23
(21)申请号 202110967712.0
(22)申请日 2021.08.23
(71)申请人 吉林华微电子股份有限公司
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