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本发明公开了一种砷化镓芯片高砷高盐废水和含砷研磨废水综合处理方法,目的在于解决砷化镓芯片的高砷高盐和含砷研磨废水的处理问题。该方法包括如下步骤:(1)高砷高盐废水结晶脱盐及单效蒸发预处理;(2)含砷研磨废水沉淀预处理;(3)综合废水除砷除磷除氟沉淀处理;(4)芬顿臭氧二级氧化及沉淀处理;(5)氨氮去除;(6)树脂吸附(7)污泥处理。本发明工艺合理,能够解决高砷高盐砷化镓芯片废水结晶堵塞、难沉淀的问题,消除高盐和研磨液超细悬浮物对树脂吸附的不利影响,保证处理后的废水达标排放,具有显著的经济价值、环
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113716775 B
(45)授权公告日 2022.05.03
(21)申请号 202111010917.6 C02F 1/04 (2006.01)
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