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本实用新型公开了一种磁控溅射设备的可调式挡板，包括基底，所述基底上开设有通透上下表面的溅射口，所述溅射口内设置有移动挡片，移动挡片与基底水平滑动连接，移动挡片与基底之间设置有固定件，本实用新型可以现场根据实际溅射状况进行调整移动挡片的位置，以随时调节薄膜沉积均匀性，大幅减少新挡板设计、加工时间，提高工艺研发效率。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214168116 U
(45)授权公告日 2021.09.10
(21)申请号 202022361509.2
(22)申请日 2020.10.21
(73)专利权人 浙江艾微普科技有限公司
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