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2023-07-15 发布于四川
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离子注入装置及系统.pdf

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本申请实施例提供一种离子注入装置及系统，包括旋转盘、壳体以及至少一个角法拉第杯。其中，旋转盘用于固定晶圆；壳体上则设置有束流口，离子发射源发射出的离子束穿过束流口照射在旋转盘的晶圆上，以对晶圆进行离子注入操作。旋转盘旋转设置在壳体中，旋转盘转动使位于旋转盘上的所有晶圆依次经过束流口接受离子注入。另外，在壳体的束流口侧面设置有角法拉第杯。离子束在穿过束流口对晶圆进行离子注入的同时，至少部分离子束射入角法拉第杯中，从而完成束流统计，检测离子束的强度。

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 219350144 U (45)授权公告日 2023.07.14 (21)申请号 202320311068.6 (22)申请日 2023.02.24 (73)专利权人济南晶正电子科技有限公司地址