测量装置、光刻系统、曝光装置、测量方法以及曝光方法.pdfVIP

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2023-07-29 发布于四川
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测量装置、光刻系统、曝光装置、测量方法以及曝光方法.pdf

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本发明提供一种测量装置、光刻系统、曝光装置、测量方法以及曝光方法，该测量装置(100)具备可保持基板(W)与XY平面平行移动的滑件(10)、驱动滑件的驱动系统、可从读头部(32)对设置于滑件具有格子部(RG1)的测量面照设多条光束并接收该多条光束各个的来自测量面的返回光束以测量滑件的包含绝对位置坐标的至少3自由度方向的位置信息的位置测量系统(30)、检测基板上的标记的标记检测系统(MDS)以及一边控制滑件的驱动并一边使用标记检测系统分别检测基板上的多个标记一边根据各标记的检测结果与检测时的位置测

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 111176083 A (43)申请公布日 2020.05.19 (21)申请号 20201