因瓦合金等离子抛光液及因瓦合金工件的等离子抛光方法.pdfVIP

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2023-08-09 发布于四川
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因瓦合金等离子抛光液及因瓦合金工件的等离子抛光方法.pdf

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本发明提供了一种因瓦合金等离子抛光液及因瓦合金工件的等离子抛光方法。因瓦合金等离子抛光液包括水，以所述水的质量百分比计，还包括还包括4～6％的硫代硫酸钠、0.5～1％的柠檬酸钠以及添加剂，所述添加剂至少包括0.1～0.5％的乙二胺四乙酸。本发明的因瓦合金等离子抛光液通过设置其组分，可在不改变因瓦合金工件的表面金属本色的情况下，方便快捷的完成对因瓦合金工件的抛光。同时通过使用本发明的因瓦合金等离子抛光液进行因瓦合金工件的抛光，并设置抛光过程的抛光参数，可在高效率降低因瓦合金工件表面粗糙度的同时，提

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116555881 A (43)申请公布日 2023.08.08 (21)申请号 202310235425.X (22)申请日 2023.03.13 (71)申请人中唯精密工业（浙江）有限公司地址