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本发明提供了一种半导体结构,包括:衬底以及位于衬底上的栅极结构,所述衬底包括势阱,势阱中形成有第一通道、第二通道、第三通道和第四通道,所述第一通道和所述第二通道连通,第一通道和第二通道注入相同的离子,第三通道和第四通道注入相同的离子。本发明还提供了一种晶体管和一种可变电容,均包括如上述所述的半导体结构。本发明还提供了一种元器件,包括晶体管以及位于所述晶体管旁边的可变电容,晶体管和可变电容的势阱相同。在本发明提供的半导体结构、晶体管、可变电容及元器件中,晶体管和可变电容的势阱为同一类型的势阱,由于
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 110931564 A
(43)申请公布日
2020.03.27
(21)申请号 20191
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