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- 2023-08-23 发布于四川
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本发明提供一种优化大马士革铜工艺的制造方法,提供一沉积有抑制层的金属间介质层;对该金属间介质层进行刻蚀,形成具有通孔和互连线沟槽的凹槽结构;在凹槽结构内沉积扩散阻挡层;在扩散阻挡层上沉积铜籽晶层;通过化学机械研磨技术,去除掉未开槽区域扩散阻挡层、铜籽晶层,露出抑制层;在凹槽结构内生长铜。本发明通过在刻蚀凹槽之前采用合适的抑制层材料,既可防止铜渗入,又可阻止铜在该层表面沉积。本发明通过工艺顺序的改变,只需进行化学机械研磨掉未开槽区域铜籽晶层,使得铜只能在没有抑制层覆盖的凹槽内生长,而不会在介质层表
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116631941 A
(43)申请公布日 2023.08.22
(21)申请号 202310407214.X
(22)申请日 2023.04.17
(71)申请人 浙江大学
地址 310030
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