氮化铝薄膜，磁控溅射，电子轰击，辉光放电.doc

PAGE PAGE 1 摘要 薄膜技术也被广泛应用于光学减反射膜等领域,因此各种物理性能也相继得到应用。实验室里经常使用的方法来制备氮化铝薄膜是磁控溅射法，磁控溅射是指在普通的溅射中加入电场和磁场的然后在通入惰性气体让它们相互反应，减少电子在衬底上的轰击。有很多制备AlN薄膜的方法。离子注入,磁控溅射等。磁控溅射是制备薄膜最方便的方法,因为该方法使用的设备简单。它很容易控制,具有重复性,并且可以在低温下产生良好结晶的薄膜材料,它具有广泛的成膜材料。下面简要介绍磁控溅射的原理。 磁控溅射在很久之前的溅射金属中发展起来的一种高速溅射技术，溅射方法可以避免双电子轰击，使衬底接近冷态。