磁控溅射镀膜原理及工艺课件.pptVIP

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2023-08-28 发布于四川
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磁控溅射镀膜原理及工艺课件.ppt

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磁控溅射镀膜原理及工艺2010级化学工程与工艺班姚伟摘要真空膜技作一种生特定膜的技，在生活中有着用。真空膜技有三种形式，即蒸膜、射膜和离子。要一下由射膜技展来的磁控射膜的原理及相工的研究。象于 1870年开始用于膜技，1930年以后由于提高了沉速率而逐用于工生。常用二极射下。通常将欲沉的材料制成板材-靶，固定在阴极上。基片置于正靶面的阳极上，距靶一定距离。系抽至高真空后充入（10～1）帕的气体（通常气），在阴极和阳极加几千伏，两极即生光放。放生的正离子在作用下向阴极，与靶表面原子碰撞，受碰撞从靶面逸出的靶原其中磁控射可以被膜技中最突出的成就之一。它以射率高、基片温