一种成形宽带离子束注入机.pdfVIP

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本发明公开了一种成形宽带离子束注入机,包括用于产生成形宽带离子束的离子源、引出电极、分析器、带分析缝的分析光栏、平行透镜以及旋转靶盘,所述离子源、引出电极、分析器、分析光栏、平行透镜以及旋转靶盘依次布置,所述旋转靶盘上设有与旋转靶盘中心重合的环形注入区域,所述环形注入区域内均匀布置有多个晶圆装载区,经过所述平行透镜后的成形宽带离子束的宽度为a、所述环形注入区域的半径为b,则a≥b。本发明具有能够降低在大剂量注入、高产能的应用场景下的晶片表面的温升,满足一些对温度敏感的特殊材料的注入工艺要求的优点

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 111199858 A (43)申请公布日 2020.05.26 (21)申请号 20181

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