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基于多栅器件的微细线条工艺制备研究的中期报告 尊敬的评委和老师们，大家好！ 我是XXX，今天我来为大家介绍基于多栅器件的微细线条工艺制备研究项目的中期报告。 首先，我简单回顾一下本研究的背景和研究意义。在现代微电子器件中，由于尺寸的不断缩小，微细线条的制备成为了一种关键技术。目前市场上已有许多制备微细线条的方法和工艺，但是它们都存在一些缺陷，比如工艺复杂、成本高昂、不稳定等。因此，寻找一种高效、简便的微细线条制备方法是非常有必要的。 本研究就是在这种背景下展开。我们使用多栅器件（Multi-gate devices）结构作为基础进行微细线条的制备。多栅器件结构由多个栅极和源漏极构成，其特点是结构简单，但能够实现精细的控制，适用于微细线条的制备。我们尝试在多栅器件结构上使用光刻技术进行微细线条的制备，通过实验来验证这一方法的可行性和优势。 截至目前，我们已经完成了实验的一部分。我们首先制备了多栅器件结构，并对其进行了特性测试，以确定工艺参数。然后，我们采用光刻技术制备出了一定尺寸的微细线条，并对其进行了表征和测试。实验结果表明，我们的制备方法能够实现细小尺寸的微细线条，并且工艺参数的控制较为稳定。同时，与传统的制备方法相比，我们的方法具有成本低、工艺简单等优点。 在接下来的研究中，我们将进一步完善制备方法，探索更为精细的控制方法，同时结合其他技术，进一步提高制备方法的效率和精度。 以上就是本项目的中期报告，谢谢大家的耐心听取。