一种掩膜版用的曝光补偿装置.pdfVIP

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2023-10-10 发布于四川
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一种掩膜版用的曝光补偿装置.pdf

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本申请公开了一种掩膜版用的曝光补偿装置，包括承载板，承载板的一侧具有接触平面，用于与光刻机平台接触，承载板的另一侧具有承载面，承载面为斜面，用于承载斜面掩膜版，并垫高斜面掩膜版厚度较薄的一侧，以使斜面掩膜版远离承载板的一侧与光刻机平台平行。对掩膜版进行曝光时，光刻机镜头需要与掩膜版保持恒定的距离，以保证曝光后掩膜版的图形质量，曝光斜面掩膜版时，光刻机镜头从斜面掩膜版厚度较大的一侧运动到厚度较小的一侧时，光刻机镜头与掩膜版的距离不断变大，导致曝光后掩膜版的图形质量异常。因此，在曝光斜面掩膜版时，将

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210626879 U (45)授权公告日 2020.05.26 (21)申请号 20192