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本发明涉及图像处理技术领域，涉及一种快速自适应调整曝光方法、装置、设备及介质，包括：将待处理图像划分为N*M个子块，遍历每个子块中像素，得到待处理图像的像素均值P以及过曝像素点个数X，当确定过曝像素点个数X大于预设过曝像素点个数阈值时采用超大步长减小曝光，当确定过曝像素点个数X小于等于预设过曝像素点个数阈值时判断是否存在场景更换，当场景发生变化时进入惩罚系数计算环节，并利用历史图像帧均值变化方向确定惩罚系数，基于惩罚系数调整曝光时间或数字增益数值，直到像素均值P处于目标曝光区间为止，以上操作均在
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116887059 A
(43)申请公布日 2023.10.13
(21)申请号 202311040539.5 H04N 25/76 (2023.01)
(22)申请日 2023.08.
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