一种用于制备抛光垫的抛光层及其制备方法与应用.pdfVIP

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2023-10-14 发布于四川
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一种用于制备抛光垫的抛光层及其制备方法与应用.pdf

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本公开提供了一种用于制备抛光垫的抛光层及其制备方法与应用，涉及集成电路材料技术领域。本公开所提供的抛光层包含聚氨酯发泡体，在抛光层中加入改性纳米磨料，作为聚氨酯发泡过程中的泡孔成核剂，均匀化泡孔的尺寸和泡孔的分布；通过高压流体物理发泡技术，制备得到密度、硬度、泡孔尺寸可控的聚氨酯发泡体，以聚氨酯发泡体作为抛光垫的抛光层，具有力学性能优异、耐磨性好、抛光速度快、抛光过程稳定和使用寿命长的优点。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116872080 A (43)申请公布日 2023.10.13 (21)申请号 202311141406.7 (22)申请日 2023.09.06 (71)申请人中山大学地址 510275