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本发明公开了一种用于超长微细结构曝光的移动式光刻装置，包括x轴丝杠导轨运动模块、y轴同步带运动模块、z轴精密调节模块、光源对焦模块、控制机构和支撑机构，支撑机构包括台面、立柱、梁和L型连接板，立柱竖直设置于台面上，立柱与梁固定连接；x轴丝杠导轨运动模块固定设置于台面上，y轴同步带运动模块固定于梁上，与L型连接板的一端连接；L型连接板的另一端与z轴精密调节模块固定连接，z轴精密调节模块与光源对焦模块在竖直方向上滑动连接；x轴丝杠导轨运动模块和y轴同步带运动模块均与控制机构电连接。该装置实现了跨尺度
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116991042 A
(43)申请公布日 2023.11.03
(21)申请号 202310792457.X
(22)申请日 2023.06.30
(71)申请人 南京工业大学
地址 210000
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