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本发明公开了一种小尺寸沟槽Mosfet的ESD结构及其制造方法,属于半导体集成电路制造技术领域,一种小尺寸沟槽Mosfet的ESD结构包括终端区域,所述终端区域设置在所述ESD区域的外围,所述ESD区域设置在所述元胞区域的外围。通过将ESD区域呈环形或者回型设置在终端区域内,增加了ESD的总长,提高了ESD的保护能力,从根本上降低ESD对功率Mosfet的损害,并且在Gate区域设置了栅极电阻,通过栅极电阻消除栅极振荡,转移驱动器的功率。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115332244 A
(43)申请公布日 2022.11.11
(21)申请号 202211005764.0 H01L 23/34 (2006.01)
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