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本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，可形成具有极高分辨性，LER小、矩形性优异、抑制了显影负载的影响的图案的抗蚀剂膜，并提供使用该化学增幅正型抗蚀剂组成物的抗蚀剂图案形成方法。一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，包含由酸不稳定基团保护且因酸的作用变成碱可溶性的基础聚合物，该基础聚合物包含含有下式(A1)表示的含苯酚性羟基的单元及下式(A2)表示的羧基被酸不稳定基团保护的重复单元的聚合物，该基础聚合物中含有的聚合物的全部重复单元中，具有芳香环骨
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117031878 A
(43)申请公布日 2023.11.10
(21)申请号 202310522141.9 G03F 1/50 (2012.01)
(22)申请日 2023.05.1
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