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本申请公开了一种真空设备的腔室泄漏监控方法，其应用于真空设备在作业时的预处理过程中，该方法包括：对真空设备的腔室进行抽真空直至腔室中的气压达到目标压力值；停止抽真空，在预定时间内计算腔室内的泄漏率曲线，泄漏率曲线是腔室的压力和时间的曲线，预定时间小于5分钟；根据泄漏率曲线确定腔室否是存在泄漏现象；当确定腔室不存在泄漏现象时，进行预处理。本申请通过减少真空设备的泄漏率测试的步骤，降低泄漏率测试的时间后，将优化后的泄漏率测试程序引入真空设备的预处理步骤，从而提高了泄漏率测试的频率，降低了真空设备由于
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117030150 A
(43)申请公布日 2023.11.10
(21)申请号 202310933732.5
(22)申请日 2023.07.27
(71)申请人 华虹半导体（无锡）有限公司
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