用作柔性显示器件的水汽阻隔膜.pdfVIP

下载本文档

1
0
约1.08万字
约 8页
2023-11-15 发布于四川
举报
版权申诉

用作柔性显示器件的水汽阻隔膜.pdf

1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

本发明公开了一种用作柔性显示器件的水汽阻隔膜，包括基底层和位于基底层外侧的水汽阻隔层，水汽阻隔层由多层交替层叠的磁控溅射层和原子沉积层构成，将磁控溅射层记为S、原子沉积层记为D、基底层记为P，水汽阻隔层中的磁控溅射层和原子沉积层按照以下层叠方式中的任意一种被布置：(S‑D)m‑S‑P顺序、(D‑S)m‑D‑P顺序、(S‑D)m‑P顺序或(D‑S)m‑P顺序，其中m是交替的S和D的数量。本发明将磁控溅射工艺和ALD(原子层沉积)工艺相结合，利用ALD工艺具有良好的缺陷覆盖率的特点，可以覆盖磁控溅射

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117062481 A (43)申请公布日 2023.11.14 (21)申请号 202311039451.1 C23C 14/08 (2006.01)