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本实用新型涉及AF膜去除设备的技术领域，特别是涉及了一种盖板局部AF膜洗除装置；其采用等离子对玻璃盖板AF膜局部清除，提高清除孔规则度，便于对玻璃盖板进行上下料，有效提高玻璃盖板AF膜局部清除效率。包括：放置治具；等离子去除机构，用于玻璃盖板AF膜的局部去除；等离子去除机构包括安装架、滑动安装于安装架上的滑动座、安装于滑动座上的第一悬臂、等离子去除组件和为滑动座滑动提供动力的第一驱动组件；底座，用于放置治具及等离子去除机构的承载；还包括覆膜撕膜机构，覆膜撕膜机构包括可上下滑动安装于滑动座上的升降
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 220005249 U
(45)授权公告日 2023.11.14
(21)申请号 202321352335.0
(22)申请日 2023.05.30
(73)专利权人 信利光电股份有限公司
地址 5
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