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本发明涉及蓝宝石光学领域，公开了一种清理蓝宝石二氧化硅抛光工艺中产生的结晶颗粒的方法。该方法包括：(1)对抛光装置的上下抛光盘表面进行清理I；所述清理I的条件包括：采用四段式程序匀速提速刷盘；(2)采用水枪对抛光装置的液缸进行清理II后，对抛光装置的液管进行清理III，再对所述液管和抛光装置的下抛光盘内部进行清理IV；所述液管的进出液口设置有过滤装置。本发明提供的方法能够及时、快速且彻底地清理抛光装置中的结晶颗粒，从而延长抛光装置的使用寿命、减少抛光装置的停机时间和提高产品加工一次良率。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117182777A
(43)申请公布日2023.12.08
(21)申请号202311158625.6B24B7/22(2006.01)
(22)申请日2023.09.0
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