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本发明公开了一种可用于多基片的高效等离子清洗设备，包括：等离子体反应装置、进气装置、排气装置以及电源装置。等离子体反应装置包括清洗腔、阳极板、阴极板、基片架、基片；进气装置包括进气管、混气室、加热罩、温度计、气瓶、质量流量计、真空计及漏阀；排气装置包括分子泵、机械泵、真空计及插板阀；电源装置为直流电源。该设备的进气管上分布有微孔，且孔径从进气端开始逐渐增大，阳极板和阴极板为分布有均匀微孔的多孔板，对气体起到均匀导流的作用；混气室外设有加热罩，对气体进行控温加热，可以提高放电效率、提升基片温度，进
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117198852A
(43)申请公布日2023.12.08
(21)申请号202311157230.4
(22)申请日2023.09.08
(71)申请人合肥工业大学
地址230009
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