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摘要
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正性阳极电泳光致抗蚀剂的研究
摘要
随着微电子工业的快速发展，关于PCB用光致抗蚀剂的研究越来越瘦到开发人员的关注和兴趣。相比常用的覆膜方式和材料，阳极电泳正性光致抗蚀剂具有生产效率高、材料耗费少且膜层均匀等许多优势，阳极电泳正性光致抗蚀剂具有非常广阔的前景。研究符合工业生产要求的这种材料具有非常重要使用价值和理论意义。
本研究通过设计并制取不同合成方案的ED膜并检验其性能，得出（甲基）丙烯酸聚合物体系最适合ED膜的合成方案。再研究电泳槽各种因素变动对这一类聚合物制得的电泳液电泳效果的效果。最终总结各组
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