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2023-12-20 发布于四川
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本公开提供了一种阵列基板及其制备方法、显示组件及显示装置，涉及显示技术领域，用于减轻Tracemura，增大亚像素区的开口率。该阵列基板具有多个亚像素区，包括：第一衬底；位于一个亚像素区中的第一电极和第二电极，两者中的至少一者包括多个电极条，每相邻的两个电极条之间具有一狭缝；狭缝包括依次相接的第一端部、直条部和第二端部，第一端部与直条部的相接位置处形成弯角，第二端部为直条部沿其延伸方向凸出形成，其中，直条部包括相互平行的第一边沿和第二边沿，第一端部沿垂直于第一边沿的方向上的平均宽度小于直条部的

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN113467138A

(43)申请公布日2021.10.01

(21)申请号202110820513.7

(22)申请日2021.07.20

(71)申请人北京

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