原创力文档- 1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
- 2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本申请涉及一种吸附装置、分子束外延设备及吸附装置的控制方法，属于半导体外延技术领域。包括：箱体，包括第一腔室；第一腔室对外密封；第一通道，一端连接分子束外延设备的生长室，另一端连接第一腔室，以连通生长室和第一腔室；真空形成部件，连接第一腔室，用于提高第一腔室的真空度；阀门，位于第一通道上；在第一腔室的真空度大于生长室的真空度的情况下，开启阀门，使第一腔室对生长室产生抽吸作用；否则，关闭阀门，以维持生长室的真空度。本申请的技术方案，使生长室的真空度保持稳定。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117404311A
(43)申请公布日2024.01.16
(21)申请号202311229458.X
(22)申请日2023.09.22
(71)申请人埃特曼（厦门）光电科技有限公司
地
文档评论（0）