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本发明提供的基板清洗装置，包括卡盘，用于承载基板；旋转轴，用于驱动卡盘旋转；固定轴，为中空轴，且同轴设置在旋转轴内侧；其中，固定轴的侧壁设置有至少一圈斜向下的出气口，用于向旋转轴与固定轴间隙内提供正压保护气体；旋转轴的内侧壁设置有导气槽，当旋转轴转动时，导气槽引导旋转轴与固定轴间隙内的气体形成向下的气流。本发明通过在固定轴侧壁设置斜向下的出气口，向旋转轴与固定轴的间隙提供正压保护气体，形成正压密封，与此同时，旋转轴的内侧壁设置导气槽，利用旋转轴自身的旋转产生压力，形成自上而下的稳定气流，能够避免
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117415090A
(43)申请公布日2024.01.19
(21)申请号202210814222.1
(22)申请日2022.07.11
(71)申请人盛美半导体设备(
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