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Ni-P-B箔的制备及其纳米化的研究的开题报告

一、研究背景

Ni-P-B合金属箔在电子工业和微纳米工业中有广泛的应用。Ni-P合金箔具有良好的机械性能、耐腐蚀性以及良好的电气性能，在微电子器件、光电器件的加工中有着重要的作用；而加入B元素可以提高Ni-P-B合金箔的硬度和耐磨性，可以在液晶显示器中作为反射板使用。此外，制备Ni-P-B纳米箔不仅可以提高材料的力学性能，还可以改善材料的表面性能，进而拓展材料在微纳米加工中的应用。

二、研究内容和目的

本文主要研究Ni-P-B合金箔的制备及其纳米化过程。具体包括以下内容：

1.采用化学镀法制备Ni-P-B合金箔，探究不同沉积时间、不同B含量对Ni-P-B合金箔性能的影响；

2.对Ni-P-B合金箔进行纳米化处理，观察纳米化前后箔的结构和性能的变化；

3.测试Ni-P-B箔的力学性能、耐腐蚀性能和电学性能等。

本研究的目的在于制备出性能优良的Ni-P-B箔，并通过纳米化处理，在微纳米加工中获得更广泛的应用。

三、研究方案

1.材料准备：纯NiSO4·6H2O、NaH2PO2·H2O、Na2B4O7·10H2O、NaAc、醋酸；

2.制备Ni-P-B箔：按一定比例混合上述材料，加入不同浓度的NaBH4，控制沉积时间，制备Ni-P-B合金箔；

3.纳米化处理：采用机械球磨的方法对Ni-P-B合金箔进行纳米化处理，控制球磨时间和球磨介质的种类；

4.对Ni-P-B箔进行性能测试：包括力学性能（硬度、拉伸强度、延伸率）、耐腐蚀性能（电化学腐蚀、盐雾实验）和电学性能等测试。

四、研究预期结果

1.成功制备出性能优良的Ni-P-B合金箔，并确定最优合金箔制备工艺；

2.通过纳米化处理，进一步提高Ni-P-B合金箔的力学性能和耐磨性；

3.测试Ni-P-B箔的性能，为其在微纳米加工领域中的应用提供理论和实验基础。

五、研究意义和创新性

本研究将对Ni-P-B箔的制备和性能进行深入探究，为高品质Ni-P-B箔的制备提供一定的理论依据和实验基础；同时，纳米化处理能够提高箔的力学性能和耐磨性，拓展其在微纳米加工领域中的应用。本研究的结果具有较强的实用性和应用价值。