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本实用新型属于真空炉技术领域,具体的说是一种对流搅拌真空炉,包括真空炉本体;所述真空炉本体上固定连接有送料仓;所述送料仓上固定连接有搅拌仓;所述搅拌仓内设置有搅拌组件;所述搅拌组件包括搅拌轴等;所述搅拌轴上固定连接有清理组件;所述清理组件包括清理轴;通过在搅拌轴上设置的清理组件实现对搅拌仓内壁的清理,清理组件包括清理轴与清理刮板等,清理轴固接在搅拌轴上,清理轴的两端固接固定板,固定板上固接清理刮板,清理刮板的末端与搅拌仓内壁抵接,且清理组件设置有两组,分别设置在搅拌轴的上下两部分,可跟随搅拌轴转
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220454222U
(45)授权公告日2024.02.06
(21)申请号202321745247.7
(22)申请日2023.07.04
(73)专利权人兆默半导体设备
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