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He-Ne激光对大豆幼苗增强UV-B损伤的修复效应及机理研究的开题报告

开题报告

学位申请人：

论文题目：He-Ne激光对大豆幼苗增强UV-B损伤的修复效应及机理研究

一、研究背景

UV-B辐射是太阳辐射中一种重要的紫外线波段，能够在适度范围内促进植物的生长发育和产量。但是，过量的UV-B辐射会对植物造成损伤，导致植物生长受阻、减产甚至死亡。植物本身具有自身的防御机制可以一定程度上减少这种伤害，但是在连续暴露UV-B辐射的情况下，植物自身的维修机制会因为负荷过大无法进行修复并逐渐失效。研究发现，在植物暴露于UV-B辐射下会释放出一些信号物质，如乙烯、茉莉酸、外源腐植酸等。这些信号物质会调控植物体内的代谢过程，进而影响植物对UV-B辐射的响应。

He-Ne激光作为近红外激光的一种，其波长为632.8nm，已被广泛应用于植物生长和生理研究中。研究表明，He-Ne激光对植物的生长和发育有促进作用，可以增加植物的光合作用、光合产物的积累、细胞活性和抗氧化能力等。此外，He-Ne激光还可以影响植物对环境逆境的响应，如减轻低温、干旱、盐胁迫等对植物的损伤。He-Ne激光对植物抗逆性的增强可能与其对植物体内生物化学应答和信号传递系统有影响有关，但其作用机制尚未得到明确的阐述。

二、研究目的

本文研究的目的是探究He-Ne激光对大豆幼苗在UV-B辐射下的受损和修复作用及其机制，具体包括：

1.研究He-Ne激光对大豆幼苗在UV-B辐射下光合参数（包括净光合速率、叶绿素荧光参数、气孔导度等）的影响。

2.研究He-Ne激光对大豆幼苗在UV-B辐射下叶片遗传物质（DNA、RNA）的损伤和修复作用，进而探讨其修复机制。

3.研究He-Ne激光对大豆幼苗在UV-B辐射下活性氧的调控作用。

三、研究内容

1.材料采集

本文选取大豆幼苗为研究对象。文章中所有实验材料均采用无污染无病害的大豆种子种植，保证材料的统一性和可比性。

2.前期实验

在实验之前，进行大豆种子的消毒、发光、播种、定植和干燥等前期准备工作。

3.试验设计

a）控制组：不进行任何处理，只在自然阳光下生长。

b）UV-B组：在紫外灯下照射7天，其波长范围在280-320nm之间，能量密度为1.6W/m2。

c）He-Ne激光组：在与UV-B辐射强度相同的紫外灯下照射7天，每天额外光照1小时，即He-Ne激光的波长为632.8nm，功率为25mw/cm2。

d）He-Ne激光+UV-B组：在紫外灯下辐射照射同时进行He-Ne激光的处理，每天额外光照1小时。

4.测定指标

①叶片光合参数的测定：利用荧光仪、静态叶倒挂法等测定方法得出光合参数。

②叶片DNA和RNA的提取、纯化和电泳分析。

③叶片中活性氧（ROS）的含量和酶活力的测定：利用光谱法、比色法等现代化生化分析手段测定叶片中ROS含量和各种酶活力情况。

四、研究意义

通过对He-Ne激光对植物在UV-B辐射下的受损和修复作用进行研究，不仅可为植物的保护和生产提供理论基础，更可为其它植物的抗逆性研究提供参考，为农业生产提供科学理论依据和指导。