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    本实用新型公开了一种曝光设备，曝光设备包括：上曝光组件，上曝光组件包括：上工作台、上吸附件和上曝光件，上吸附件可上下移动地设置于上工作台上，上曝光件设置于上工作台上；下曝光组件，下曝光组件位于上曝光组件的下方，且下曝光组件与上曝光组件之间可相对移动，下曝光组件包括：下工作台、下吸附件和下曝光件，下工作台与上工作台上下相对设置，下吸附件可上下移动地设置于下工作台上，下曝光件设置于下工作台上。可以在基板不翻转的情况下分别对基板的上下两个面进行曝光，无需利用翻板机对基板进行翻转，减小曝光设备所占用的空

    (19)国家知识产权局

    (12)实用新型专利

    (10)授权公告号CN220526187U

    (45)授权公告日2024.02.23

    (21)申请号202322225011.7

    (22)申请日2023.08.17

    (73)专利权人合肥芯碁微电子装备股份有限公

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