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2024-03-09 发布于四川
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掩模版结构和掩模版精度监控方法.pdf

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本申请涉及半导体制造技术领域，具体涉及一种掩模版结构和掩模版精度监控方法。结构包括：在X方向上相对设置的第一X向挡板和第二X向挡板，以及在Y方向上相对设置的第一Y向挡板和第二Y向挡板；其中，X方向与Y方向相互垂直；第一X向挡板和第二X向挡板均沿Y方向延伸，第一Y向挡板和第二Y向挡板均沿X方向延伸；第一X向挡板和/或第二X向挡板上设有至少一个第一标尺，第一标尺沿X方向延伸；第一标尺包括沿X方向间隔排布的刻度图案，每个刻度图案对应一刻度值；第一Y向挡板和/或第二Y向挡板上设有至少一个第二标尺，第二标

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117666277A

(43)申请公布日2024.03.08

(21)申请号202311608281.4

(22)申请日2023.11.27

(71)申请人华虹半导体（无锡）有限公司

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