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本实用新型涉及半导体制造设备技术领域，公开了一种半导体制造装备的清洁设备，包括机体，所述机体的上表面一侧设置有水泵，所述水泵的输入端固定连接有进水管，所述进水管的一端设置有清洁水箱，所述水泵的输出端固定连接有出水管。本实用新型中，通过将需要清洗的半导体放置到冲洗盒内，通过启动电动伸缩杆可将冲洗盒推送到喷淋头下方，通过启动水泵将清洁水箱内的清洁液体抽取，通过出水管、冲洗头与喷淋头可开始对清洁盒内的半导体开始进行全面的清洗清洁，通过电磁调节阀可调节水压大小，进入可控制清洗水流水速度与水流量，加快清洗
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220821491U
(45)授权公告日2024.04.19
(21)申请号202322491590.X
(22)申请日2023.09.14
(73)专利权人陕西晶奕芯原科技有限公司
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