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真空镀膜设备中可同时带有自转和公转的精密控制靶台.pdfVIP

真空镀膜设备中可同时带有自转和公转的精密控制靶台.pdf

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    本实用新型涉及一种真空镀膜设备中可同时带有自转和公转的精密控制靶台，包括真空法兰；真空法兰两侧分别为真空腔体外和真空腔体内，真空腔体外设置第一真空旋转导入器，真空腔体内设置靶台的公转盘，所述的第一真空旋转导入器驱动公转盘公转，所述的公转盘上环置有多个靶托，真空腔体外位于第一真空旋转导入器避让位置设置第二真空旋转导入器，所述的第二真空旋转导入器驱动靶托自转；真空腔体内的第一真空旋转导入器上设置减速机，减速机上连接中心杆，所述的中心杆带动公转盘公转。

    (19)国家知识产权局

    (12)实用新型专利

    (10)授权公告号CN220812588U

    (45)授权公告日2024.04.19

    (21)申请号202322220887.2

    (22)申请日2023.08.16

    (73)专利权人安徽外延科技有限公司

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