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本申请公开了一种光学邻近校正模型的建模方法、使用方法及相关装置,属于光刻技术领域。本申请在光学邻近模型建模时收集多个不同图案在不同曝光剂量下的关键尺寸量测值,并以此得到每个图案的图像斜率。在优化模型参数时将仿真和量测的图像斜率值的差别加入目标函数。将量测的光刻后图像斜率引入建模的目标函数,使得模型既可以准确的预测光刻后图案轮廓,又可以准确地预测光刻后图像斜率信息,保证了光学邻近校正模型在各种应用场景下的精确度。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN118068662A
(43)申请公布日2024.05.24
(21)申请号202410480510.7
(22)申请日2024.04.22
(71)申请人华芯程(杭州)科技有限公司
地址
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